Langkah-langkah proses utama yang dilengkapi dengan batik dari pekalongan doping dan pembersihan.
Wafer silikon mono-kristal (atau untuk aplikasi khusus, silikon di safir atau wafer gallium arsenide) digunakan sebagai substrat. Fotolitografi digunakan untuk menandai area yang berbeda dari substrat yang akan diolah atau memiliki polysilicon, insulator atau logam (biasanya aluminium) pekalongan batik trek disimpan pada mereka.
Sirkuit terpadu terdiri dari banyak lapisan yang tumpang tindih, masing-masing didefinisikan oleh fotolitografi, dan biasanya ditampilkan dalam warna berbeda. Beberapa lapisan menandai di mana berbagai dopan yang disebarkan ke dalam substrat (disebut lapisan difusi), beberapa mendefinisikan mana ion tambahan yang ditanamkan (lapisan implan), beberapa mendefinisikan konduktor (polysilicon atau logam lapisan), dan beberapa menentukan hubungan antara lapisan melakukan ( melalui atau lapisan kontak). Semua komponen yang dibangun dari kombinasi tertentu lapisan ini.
Dalam proses CMOS self-aligned, transistor terbentuk lapisan mana pun pintu gerbang (polysilicon atau logam) melintasi lapisan difusi.
Struktur kapasitif, dalam bentuk yang sangat mirip dengan piring melakukan paralel kapasitor listrik tradisional, yang dibentuk sesuai dengan wilayah dari "piring", dengan bahan isolasi antara pelat. Kapasitor dari berbagai ukuran lazim di IC.
Garis berkelok-kelok dari berbagai panjang kadang-kadang digunakan untuk membentuk on-chip resistor, meskipun sebagian besar sirkuit logika tidak memerlukan resistor. Rasio panjang struktur resistif untuk lebar, dikombinasikan dengan lembar resistivity, menentukan perlawanan.
Lebih jarang, struktur induktif dapat dibangun sebagai kecil gulungan on-chip, atau simulasi oleh gyrators.
Karena perangkat CMOS hanya menarik arus pada transisi antara logika negara, CMOS mengkonsumsi banyak kurang lancar dari bipolar.
Sebuah memori akses acak adalah jenis yang paling biasa sirkuit terpadu; perangkat kepadatan tertinggi demikian kenangan, tetapi bahkan sebuah mikroprosesor akan memiliki memori pada chip. (Lihat struktur array biasa di bagian bawah gambar pertama.) Meskipun struktur yang rumit - dengan lebar yang telah menyusut selama beberapa dekade - lapisan tetap jauh lebih kurus daripada lebar perangkat. Lapisan bahan yang dibuat seperti sebuah proses fotografi, meskipun gelombang cahaya dalam spektrum terlihat tidak dapat digunakan untuk "mengekspos" lapisan bahan, karena mereka akan terlalu besar untuk fitur. Jadi foton frekuensi yang lebih tinggi (biasanya ultraviolet) digunakan untuk membuat pola untuk setiap lapisan. Karena setiap fitur sangat kecil, mikroskop elektron adalah alat penting untuk proses insinyur yang mungkin debug suatu proses fabrikasi.
Tidak ada komentar:
Posting Komentar